우리는 눈에 보이지 않는 차이가 혁신적인 결과를 만든다고 믿습니다.
빠르게 변화하는 미래, 그 중심에서 당신과 함께 새로운 기준을 써내려가고 싶습니다.
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팀 소개 - 1
FST Horizon
: 무한한 가능성으로 확장되는 반도체 기술의 지평
Pellicle사업부
Pellicle Division
Pellicle은 특정 파장에서 높은 투과율을 유지하며 노광 공정 중 포토마스크가 오염되지 않도록 보호하는 막입니다.
High Exposure Dose
Membrane Perfluoropoloymer 내광성 향상으로 Pellicle 사용수명 연장
Particle Free
Pellicle 검사장비를 통한 무결점의 제품 상태 보증 및 Mask를 Particle 등과 같은 오염으로부터 완벽하게 보호
Haze - Safe
Frame의 SO42 - & PO4와 같은 Outgas 방출 개선을 위해 ECC Coating 기술을 적용하여 Haze로부터 Mask를 보호
TCU사업부
TCU Division
(Temp. Control Unit)
Chiller는 다양한 열교환 시스템을 통해
반도체 및 FPD 생산 공정 중 고정밀
온도 제어를 제공합니다.
Scrubber는 공정장비로부터 발생하는
여러 종류의 유해 배기가스를 대기 환경 기준에 따라 적정 기준치 이하로 처리하여
배출시키는 장치입니다.
Engergy Saving
설비 저전력화를 위한 고효율 Pump와
Inverter 사용 및 Hot-gas Bypass로
에너지 효율화 실현
Refrigeration System Operation
Cascade 냉동시스템 적용으로 극저온 구간에서 최적의 조건 동작 구현 가능
LOW GWP
친환경 냉매를 사용한 Low GWP 만족
APS사업부
APS Division
(Advanced Product & Solutions)
EUV Infra Tool은 EUV 리소그래피 기술을 활용하여 반도체를 생산하는 데 필요한 핵심 장비 및 시스템입니다.
Full Automation
EUV Pellicle 탈착/부착 100% 자동화로 Manual 장비 대비 생산성 및 안정성 향상
Process Precise Control
Glue 정량 도포 및 공정
Monitoring System을 통한 정밀 공정 제어
Diverse Inspection Area
EUV Pellicle, Membrane, Frame,
Mask 등 다양한 영역 검사로
EUV 펠리클의 오염도 및 수명 확인 가능
부설연구소
R&D Center
EUV Pellicle은 20-30nm 두께로
EUV 고에너지에 충분히 견딜 수 있는
높은 열-기계적 강도를 가지면서,
90% 이상 EUV 광을 투과시켜
노광 중 EUV 마스크를 안전하게
보호할 수 있는 최첨단 박막입니다.
